‍‍‍‍据多家媒体报道，3月30日，积塔半导体在上海临港举行300mm车规半导体集成电路制造基地设备入场开工

仪式，ASML光刻机入场。‍‍ 

报道称，此次积塔半导体临港基地入场的光刻机或为干式DUV光刻系统I-line、ArF系列。据悉，TWINSCAN 

XT:400L是ASML最新的i-line系统，分辨率低至220nm，适用于200mm和300mm晶圆生产;TWINSCAN NXT:1470

双级ArF系统，可以打印分辨率低至220nm的图案，被大多数逻辑和存储器客户所采用，并已被插入到大批量制

造工艺中，用于200mm和300mm晶圆生产，实现每小时330个晶圆的生产率。 

‍‍据了解，积塔半导体目前在上海临港新片区和徐汇区建有两个厂区，已建和在建产能包括6吋7万片/月、8吋

11万片/月、12吋5万片/月、碳化硅3万片/月，为功率器件、汽车电子等核心芯片提供服务。‍‍‍‍